NanoMaker - это литографическая система, предназначенная для проектирования 2D и 3D структур и их экспонирования на электронных (SEM), ионных (FIB) микроскопах и промышленных литографах.

Почему NanoMaker?

NanoMaker предоставляет уникальные методы и технологии создания микро- и наноструктур, проверенные более чем 20-ти летним опытом эксплуатации:

• содержит графический редактор, позволяющий проектировать иерархические литографические структуры практически любого размера и любой сложности;
• оптимизирует дозу (время) экспонирования, учитывая эффект близости для 2D/3D структур и рассчитывает другие параметры процесса таким образом, что гарантирует 100% результат за одну литографию;
• моделирует проявление резиста;
• компенсирует дисторсию отклоняющей системы микроскопа при работе в большом поле;
• значительно сокращает общее время экспонирования за счет активной компенсации динамических ошибок отклоняющей системы микроскопа;
• позволяет экспонировать без бланкера;
• включает Монте Карло моделирование для расчета параметров эффекта близости в случае многослойных подложек;
• может использоваться как диагностический инструмент для получения с высоким разрешением панорамных изображений поверхности пространных микро-объектов. Например, для фотографирования топологии при обратном проектировании Интегральных Схем (IC).

Ни одна из компаний производящих аналогичные системы на мировом рынке не предлагает такой набор функций.

Назначение и задачи

NanoMaker предназначен для решения следующих задач:

1. предоставить пользователю мощную, универсальную и удобную систему для преобразование любого сканирующего электронного или ионного микроскопа в литограф;
2. обеспечить достижение предельного литографического разрешения на конкретном приборе и с этой целью:
   1. осуществлет коррекцию эффекта близости в процессе подготовки данных для литографии;
   2. позволяет прогнозировать и оптимизировать результы литографии посредством моделирования проявления резиста;
   3. компенсирует ошибки отклоняющей системы при экспонировании и снятии изображений;
   4. легко адаптируется под различные конфигураций литографического оборудования, учитывая системы бланкирования луча, моторизованные столы и т.д.;
3. создавать трехмерные структуры в резисте с использованием дозовых кривых;
4. обеспечить расширенные возможности при проектировании голограмм и киноформных приложений;
5. способствовать ознакомлению пользователей с основными принципами литографии за счет интуитивно-понятного интерфейса, логичной последовательности операций и прочной теоретической основы.

Области применения

• Микроэлектроника;
• Нанотехнологии, нанофизика;
• 3D нано- и микроструктурирование;
• MEMS (микро-электромеханические системы);
• MOEMS (микро-оптоэлектромеханические системы);
• Дифракционная оптика (синтезированные голограммы) для видимого и рентгеновского диапазона, включая радужные голограммы;
• Микромашининг, микрофлюидика

Растровый электронный микроскоп под управлением NanoMaker

Легко устанавливается на:

• Сканирующие электронные микроскопы: JEOL, FEI, ZEISS, HITACHI, LEO, PHILIPS, TESCAN,...
• Установки с острым ионным пучком (FIB)