Генеральный директор Российской корпорации нанотехнологий ("Роснано") Анатолий Чубайс и председатель Совета директоров АФК "Система" Владимир Евтушенков подписали инвестиционный договор по созданию серийного производства интегральных схем на основе наноэлектронной технологии с проектными нормами 90 нм на пластинах диаметром 200 мм. Подписание документа состоялось во время визита председателя правительства РФ Владимира Путина на предприятие "НИИМЭ и Микрон", расположенное в Зеленограде, говорится в сообщении "Роснано".
Как отмечается, подписание инвестиционного соглашения дает старт проекту, который призван вывести отечественную микроэлектронную промышленность на новый уровень развития. Проект будет реализован на производственной базе с использованием инфраструктуры завода "Микрон" (входит в состав ОАО "Ситроникс", крупнейшим акционером которого является АФК "Система"). Технологическим партнером совместного проекта выступит швейцарский производитель полупроводников STMicroelectronics. Как ожидается, развитие проекта позволит создать технологическую систему, включающую в себя дизайн-центры, научно-исследовательские организации, компании, занимающиеся материаловедением микроэлектроники.
Продукция, которая будет выпускаться на новом производстве, нацелена на такие развивающиеся массовые рынки, как цифровое телевидение, ГЛОНАСС/GPS навигация, системы автоматизации производства, автомобильная электроника и смарт-карты с высокой степенью защиты.
Инвестиции в проект осуществляются в форме взносов в уставный капитал создаваемого совместного предприятия, соучредителями которого на паритетных началах выступят "Роснано" и "НИИМЭ и Микрон". Общий объем финансирования проекта составит 16,5 млрд руб. В соответствии с соглашением, объем инвестиций "Роснано" составит 6,5 млрд руб. В свою очередь, "Ситроникс" вложит в проект равную долю в виде высокотехнологичного оборудования основного исполнителя проекта - завода "Микрон". В долгосрочной перспективе проект предусматривает также привлечение заемного финансирования.
"Этот проект имеет стратегическое значение, - отметил генеральный директор "Роснано" Анатолий Чубайс. - Формирование отечественного наноэлектронного производства в России играет важную роль в обеспечении технологической безопасности страны и развитии всего высокотехнологичного сектора экономики".
"С каждым следующим поколением производственной технологии растет производительность и снижается энергопотребление чипа. Внедрение технологии 90 нм позволит нам выйти на новые рынки, сохранив при этом рыночные позиции по продукции с технологической нормой 180 нм", - заявил генеральный директор "НИИМЭ и "Микрон" Геннадий Красников.