Описание PROXY for Windows

к.ф-м.н. А.Свинцов

Цель создания PROXY for Windows.

1. Превратить любой растровый электронный микроскоп (РЭМ) в литограф.
2. Достигнуть при литографии предельного разрешения, которое позволяет данное технологическое оборудование. Для чего

• при подготовке данных для литографии произвести коррекцию эффекта близости
• программно компенсировать искажения отклоняющей (сканирующей) системы при экспонировании и снятии изображения.

3. Обеспечить исчерпывающее предсказание результатов литографии за счет моделирования.
4. Обеспечить гибкую настройку под различные конфигурации литографического оборудования, независимо от наличия или отсутствия системы бланкирования пучка, присутствия и типа столика и т.д.
5. Предоставить возможность создавать в резисте трехмерные объекты, заданные в виде изоуровней (террас).
6. Достигнуть всего этого быстро и с наименьшими затратами для пользователя. Так, чтобы работа с данными и экспонирование напоминало работу по созданию документов и их печать на принтере в текстовом редакторе для WINDOWS.
7. Научить пользователя основам электронной литографии.

Составные части Proxy for WINDOWS

Proxy разработана для обеспечения четырех основных типов деятельности:

1. Подготовка данных для экспонирования. Вызывается из меню File при открытии нового или существующего файла Графической Базы Данных (с расширением GDB), или при импорте файлов с другими форматами данных (с расширениями ELM, CSF, GDS, DXF). Процедура подготовки данных включает:

• Простой редактор для ручного ввода и изменения данных топологии проектируемых объектов (структур) и их атрибутов.
• Коррекцию эффекта близости (меню Proximity, диалог Correction). Эта процедура подготовки данных заключается в расчете дозы экспонирования, необходимой для получения заданного результата проявления, как в случае стандартной (плоской, 2D) литографии, так и при создании трехмерных (3D) объектов. Для этого вначале находится непрерывное распределение дозы, а затем исходная структура разбивается на части (зоны) с постоянной дозой экспонирования в соответствии с таблицей заданных уровней дозы.
• Моделирование экспонирования и проявления резиста (меню Proximity, диалог Simulation) в любом прямоугольном окне. Результат моделирования представляет собой изоуровни толщины оставшегося резиста в соответствии с заданной таблицей уровней. Опыт работы с Proxy, показывает, что при знании параметров функции близости, контрастности и чувствительности резиста, результаты реальной литографии и моделирования совпадают.
• Импорт и экспорт данных в различных форматах. (ELM, GDSII, DXF)
• Специальные преобразования данных (Postprocessing, Group, Ungroup, Transformation, Modification меню Edit) для выделения характерных участков на границах элементов структуры (Frame), превращения позитивного изображения в негативное (Negative), объединение элементов (Union) и т.д.

2. Работа с видео. Измерения. Вызывается из меню File при открытие нового (New Video Control) или существующего файла системы маркерных знаков (Open) (с расширением MRK), или при импорте видео изображения (файлы с расширениями TIF). Включает:

• Диалог Define Mark и простой редактор для создания системы окон маркерных знаков (пространственная структура системы сохраняется в MRK файле).
• Система для снятия полутонового изображения (256 уровней) (Get Video, Get All Video) и сохранение изображения в TIFF файле (Export).
• Система обработки видео изображения (на основе гистограммы изображения, диалоги Tone, Palette, View).
• Специальные измерительные процедуры, которые позволяют настроить Proxy таким образом, что при снятии изображения и экспонировании будут автоматически компенсироваться практически все неточности отклоняющей системы и системы управления стола. К ним относятся:
• Динамические задержки системы сканирования (диалог Dynamic definition)
• Статические нелинейные искажения системы сканирования, особенно существенные в больших полях (диалог Distortion definition).
• Статические линейные поправки в системе сканирования (диалог Alignment definition) для вырисовывания по существующим на образце маркерным знакам, чтобы поместить при последующем экспонировании структуру в заданное место на образце.
• Процедура настройки системы управления столиком (диалог Stage Adjustment) для согласованной совместной работы столика и отклоняющей системы как при экспонировании, так и при снятии изображения.
• После настройки всех параметров практически любой растровый микроскоп можно использовать как профессиональный литограф, или в метрологических целях.

3. Экспонирование (диалог Exposure, вызывается из меню File). Содержание работ:

• Экспонирование структуры из GDB файла с переездами или без переездов стола, компенсируя все измеренные искажения.
• Приостановка экспонирования (Pause) для настройки микроскопа, или для выхода из Proxy с последующим продолжением экспонирования.
• Оценка времени (Estimate time) экспонирования, при котором осуществляются все процедуры сопутствующие экспонированию (разбиение элементов на отдельные сканы (линии), компенсация искажений и т.д.) за исключением работы с генератором (непосредственного рисования), что дает возможность точно определить полное и чистое время экспонирования и затраты времени, связанные с успокоением системы при бланкировании пучка.

4. Отдельное управление столом и его настройка (диалог Stage, вызывается из меню File). Работы:

• Управление переездами стола в различных системах координат.
• Задание специальных позиций стола (Position List) и переезд к ним.
• Настройка координат стола (диалог Adjust) для обеспечения переездов столика в системе координат образца.