Компания Interface и Институт проблем технологии микроэлектроники и особо чистых материалов Российской Академии наук (ИПТМ РАН) объявили о выходе новой версии программно-аппаратного комплекса NanoMaker, предназначенного для подготовки данных и создания плоских и трехмерных структур методами электронной литографии на базе растровых электронных микроскопов.

Новая версия продукта может работать практически со всеми типами таких микроскопов и с установками, использующими фокусированный ионный пучок.

Программно-аппаратный комплекс NanoMaker позволяет превращать растровые электронные микроскопы в литографы и решать задачи проектирования и подготовки данных, выполняемые в настоящее время промышленными литографами.

Первые версии выходили под именем Proxy и распространялись фирмой Raith Gmbh. Они были выполнены для MS DOS, а впоследствии выпускались как 16-разрядные Windows-приложения. Настоящая версия NanoMaker представляет собой 32-разрядное приложение и предназначена для работы в средах Windows 9x, NT, 2000 и XP.

Создатели системы NanoMaker имеют опыт ее внедрения и эксплуатации на микроскопах JEOL JSM-840, BS-300, Phillips SEM 525, комплексах ZRM-12, ZRM-20, а также на ионных литографах с фокусированным пучком.

Новая версия позволяет корректировать эффекты близости для плоских и трехмерных структур, моделировать эффект близости и проявление резиста, компенсировать статические искажения отклоняющей системы (дисторсию), измерять и подавлять динамические ошибки отклоняющей системы пучка.