Компания IBM намерена осуществить прорыв в компьютерной микрогеометрии и построить 22-нанометровый процессор с помощью собственного ноу-хау, сообщает CNET News.
Компании Intel и AMD, лидирующие на мировом рынке полупроводниковых микросхем, активно переводят свои производственные линии с 65-нанометрового стандарта на строительство процессоров по 45-нанометровой технологии. AMD, объединившая свои исследовательские ресурсы с IMB, планирует представить 45-нанометровые процессоры в последнем квартале текущего года. Следующим порогом станет производство микропроцессоров по 32-нанометровой технологии, что не должно составить особых трудностей для инженеров. А вот создание 22-нанометровых процессоров - это уже вызов, и IBM пытается ответить на него, опередив Intel.
При создании микропроцессоров применяется метод фотолитографии, основанный на применении фотошаблонов (масок), светочувствительной эмульсии и света определенной длины волны. Основная проблема, возникающая при создании 22-нанометровых микросхем, состоит в том, что длина волны света, используемого при печати фотошаблонов, сопоставима с размерами желаемого отпечатка, а применение 193-нанометрового ультрафиолета в фотолитографии пока не освоено должным образом, поясняет Субу Айер, ведущий инженер IBM.
По заявлению IBM, оптическое масштабирование на сегодняшний день достигло предела своих возможностей, однако новый интенсивный вычислительный метод "Голубого гиганта" позволяет создавать 22-нанометровые фотошаблоны и получать на их основе отпечатки на поверхности кремниевой пластины с применением 193-нанометрового ультрафиолетового излучения. Айер сообщает, что при масштабировании схемы электрической цепи (создании фотомаски) требуется выполнить большой объем вычислений, и мощные компьютеры IBM позволяют справиться с этой задачей.